Implant M4

Pół stożkowy gwint w kształcie litery V

Kształt implantu wraz z gwintem przeznaczony jest do łagodnej kompresji kości, co zapewnia osiągnięcie maksymalnej stabilizacji pierwotnej i długoterminowej stabilności wtórnej.

Podwójny gwint

Ułatwia procedurę osadzania jednocześnie przylegając łagodnie do otaczającej kości. Ogólny wskaźnik zagłębiania M4 wynosi 1.6mm na pełny obrót implantu.

Powierzchnia implantu M4

Powierzchnia implantu MIS M4 jest zarówno piaskowana jak i wytrawiana. Ta obróbka powierzchniowa zwiększa powierzchnię implantu, tworząc jednocześnie mikro- i nano-strukturę a także eliminuje różne zanieczyszczenia powierzchniowe.

Biblioteka

Cechy implantów M4

Pół stożkowy gwint w kształcie litery V: Kształt implantu wraz z nowym rodzajem gwintu przeznaczony jest do łagodnej kompresji kości, co zapewnia osiągnięcie maksymalnej stabilizacji pierwotnej i długoterminowej stabilności wtórnej.

Wewnętrzny sześciokąt: implant M4 posiada wewnętrzne połączenie oparte na sześciokącie. To dobrze znane połączenie zapewnia właściwe osadzenie elementów protetycznych z anty-rotacją, wysoką odporność na działanie sił bocznych oraz doskonałe rezultaty estetyczne.

Płaski wierzchołek pozwala na wprowadzenie korekty jego osi w trakcie procedury umieszczania go w kości.

Podwójny gwint ułatwia procedurę osadzania jednocześnie przylegając łagodnie do otaczającej kości. Ogólny wskaźnik zagłębiania M4 wynosi 1.6mm na pełny obrót implantu.

Szeroki zakres elementów protetycznych.

Powierzchnia mikroporowata osiągana jest przez połączenie procedur piaskowania i wytrawiania kwasem. Technologia przygotowania powierzchni jaką oferuje MIS dostarczyła już milionom pacjentów i lekarzy doskonałych wyników osseointegracji zapewniając długotrwały sukces kliniczny.

Surowiec: Wszystkie implanty MIS wykonane są z Ti-6Al-4V ELI (klasa 23), wyższej wersji czystości Ti-6Al-4V. Ten szczególny rodzaj stopu łączy biokompatybilność, doskonałą wytrzymałość mechaniczną, oraz niski moduł sprężystości. Zewnętrzna powierzchnia każdego implantu MIS składa się z cienkiej warstwy czystego tlenku tytanu.